日本光刻巨头:中国企业想掌握EUV芯技术难度很大

2022-07-15 20:54:13 作者:科技达人
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5月23日音讯,据报道,近日日本光刻胶巨头JSR的首席执行官埃里克约翰逊(Eric Johnson)在承受采访时示意,虽然中国在致力推进芯片的自力更生,但中国半导体产业必要的根底设备有余,比方很难把握基于极紫外(EUV)光刻的复杂芯片制作技术,倒退先进制程的芯片制作技术将十分艰难。

约翰逊指出,“我以为中国也十分想倒退本人的EUV(极紫外光刻)才能和相干的生态零碎(比方EUV光刻胶)。但坦白地说,我以为他们要做到这一点十分艰难。”

实际上,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)CEO温彼得也在往年1月表白过和约翰逊相似的观念,以为“中国不太可能复制出顶尖的EUV光刻机”。但他过后补充称,永远别那么相对,中国的物理定律和全世界是一样的,“他们一定会尝试”。

另外,关于中国在光刻胶畛域的追逐,以及心愿在高端光刻胶技术上的打破,约翰逊以为,即使中国取得相干化学成分确实切材料,但在纯度、精度及制作上都十分艰难,且中国也没有供给链支持。但中国以后踊跃投资成熟的芯片技术,也是不容漠视的一局部,“人们还没充沛认识到,中国有多少机会能够不依赖这些先进制程。”

材料显示,JSR公司成立于1957年,中文名为日本分解橡胶,是寰球次要的光刻胶供给商之一。在使用方面,光刻胶是半导体、液晶面板(LCD)、印刷电路板(PCB) 等产业的重要原资料。

在半导体畛域,目前光刻机曝光光源一共有六种,辨别是紫外全谱(300~450nm)、 G 线(436nm)、 I 线(365nm)、深紫外(DUV,包括 248nm 和 193nm)和极紫外(EUV),绝对应于各曝光波长的光刻胶也应运而生,对应辨别为,G 线光刻胶、I 线光刻胶、KrF光刻胶、 ArF光刻胶、EUV光刻胶。

目前,在寰球半导体光刻胶畛域,次要被日本分解橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、美国杜邦、日本信越化学、富士电子、罗门哈斯等头部厂商所垄断,其中JSR占据了28%的市场。

而在高端半导体光刻胶市场上,JSR在ArF光刻胶畛域以24%的市场份额位居寰球第一。在EUV光刻胶方面,TOK和JSR有较高的份额。

从国际的光刻胶市场来看,低端的中g线/i线光刻胶自给率约为20%,KrF光刻胶自给率有余5%,而高端的ArF光刻胶齐全依赖出口,是国际半导体的卡脖子技术之一。

至于EUV光刻胶,因为美国的阻遏,大陆目前无奈出口EUV光刻机,因而国产EUV光刻胶的开发天然也无从谈起。

日本光刻巨头:中国企业想掌握EUV芯技术难度很大


文章出处:芯智讯